Walce Saphira PLP Anilox stanowią kluczowy element procesu nakładania powłoki i zostały opracowane z myślą o spełnieniu najwyższych wymagań w druku akcydensowym, opakowaniowym i etykietowym. Dzięki opatentowanej technologii Pulsed Laser Process zapewniają one wyjątkową dokładność wymiarową, niezmiennie precyzyjne grawerowanie oraz wysoce kontrolowany transfer lakieru. Gwarantuje to powtarzalne wyniki uszlachetnienia, ogranicza ilość odpadów i zapewnia stabilną wydajność zarówno w przypadku lakierów na bazie wody, jak i lakierów UV. Jako część zintegrowanego systemu HEIDELBERG zapewniają one najwyższą jakość, wydajność i niezawodność w całym procesie drukowania.
dostępne w wersjach Hexagon, Helical, High Volume i Perfect Screen, aby sprostać różnorodnym wymaganiom zastosowań
od akcydensu i etykiet, aż po opakowania
w celu zapewnienia płynnego działania w ramach zintegrowanego systemu HEIDELBERG
każdy walec jest dostarczany wraz z opakowaniem ochronnym, drewnianym pudełkiem, specyfikacją walca oraz protokołem z badań
Walce Saphira PLP Anilox są produkowane przez firmę HEIDELBERG na najnowocześniejszych liniach produkcyjnych. Opatentowana technologia Pulsed Laser Process zapewnia niezwykle precyzyjne grawerowanie, niezmiennie wysoką dokładność wymiarową oraz niezawodne przenoszenie farby. Dzięki zoptymalizowanemu procesowi kontroli jakości otrzymujemy trwałe walce rastrowe które zapewniają stałą wydajność i wysoką stabilność procesu w codziennej produkcji.
Firma HEIDELBERG kontroluje cały proces produkcyjny we własnym zakładzie – od surowego walca, przez nakładanie powłoki, aż po końcową kontrolę jakości. Ten w pełni zintegrowany łańcuch procesów zapewnia maksymalną dokładność wymiarową oraz pełną identyfikowalność każdego walca.
Zoptymalizowane grawerowanie laserowe zapewnia wyjątkowo jednolitą powierzchnię. Efektem tego są wysoce jednorodne warstwy powłoki, mniejsze zamglenie i tworzenie się kropel oraz widocznie spójny, wysoki połysk – zarówno w przypadku powłok konwencjonalnych, jak i UV.
Perfect Screen łączy w sobie zalety sprawdzonych metod grawerowania i zapewnia wyjątkowo gładkie powierzchnie powlekane, wyższy połysk oraz - w zależności od zastosowania - zmniejszenie zużycia powłoki. Zoptymalizowana struktura pozwala uzyskać bardziej jednolitą powierzchnię powlekaną, szybsze schnięcie oraz stabilną wydajność produkcyjną zarówno w przypadku powłok na bazie wody, jak i powłok UV, przy jednoczesnym znacznym ograniczeniu tworzenia się piany.