Thermal Plate Neg. QN

Die Lösung für die konstante Plattenherstellung. Eine herausragende Eigenschaft der Saphira® Thermal Plate Neg. QN ist ihr sehr großer Verarbeitungsspielraum. Auch unter schwierigsten Verarbeitungsbedingungen erweist sich die Platte als stabiler Faktor in der gesamten Plattenherstellung. Unterschiede in Temperatur, pH-Wert, Aktivität oder Regeneratmengen haben wenig bis keinen Einfluss auf das Druckergebnis. Die lichtempfindliche Schicht wird durch die Belichtung verschmolzen, verbindet sich mit dem Aluminiumträger und ist dadurch sehr auflagenstabil. Die nichtbelichteten Bereiche werden nur noch ausgewaschen.

Perfekte Resultate im Druck. Die "Flat Substrate" Technologie und die sehr gute Kantenschärfe der Saphira Thermal Plate Neg. QN reduzieren Druckschwankungen über die gesamte Auflage und verringern Makulatur.

Der Einstieg in die ökologische Plattenherstellung. Die Saphira Thermal Plate Neg. QN benötigt keinen aggressiven Entwickler. Die Saphira Thermal Plate Solution QN wird nur noch zum Auswaschen der Schicht benötigt. Die geringen Regenerierungsraten und die lange Standzeit der Auswaschlösung reduzieren gleichzeitig das benötigte Volumen an Verarbeitungschemie.

Vorteile:

• Auflagenhöhe bis zu 200.0001 Druck ohne Einbrennen
• Sehr großer Verarbeitungsspielraum
• Besonders gute Kantenschärfe
• Kein Einsatz eines aggressiven Entwicklers
• Geringer Verbrauch an Auswaschlösung